2021
- 2021.02 Bio -Plasma를 이용한 Cosmetic 제품 4종 출시
2020
- 2020.08 사업목적추가(의료용 물질, 화학제품 물질 제조)
2019
- 2019.09 플라리트 지분 투자(190백만원)
- 2019.05 중국 현지사무소 설립 변경 (우한ICD광전유한공사)
2018
- 2018.06 회사 분할(단순물적분할) (주)아이씨디 : (주)아이씨디 머트리얼즈
- 2018.02 플라리트 지분 투자(750백만원)
2016
- 2016.12 안성사업장 A6동 증축(1,100평) 및 부지매입(2,000평)
- 2016.08 안성사업장 건물(800평) 및 부지매입(1,700평)
- 2016.07 안성사업장 A5동 증축(1,000평) 및 부지매입(1,700평)
- 2016.03 인투코어테크놀로지 지분 투자(150백만원)
- 2016.01 G8.5 OLED ICP Etcher 개발
2015
- 2015.01 중국 현지법인 설립(우한ICD광전유한공사)
2014
- 2014.11 기업부설연구소 Medical Health Center 설립 (한국산업기술진흥협회)
- 2014.08 G8 OXIDE ICP Etcher 개발
- 2014.04 히든챔피언 선정(한국거래소)
- 2014.03 AMOLED G6 ICP Etcher 개발
- 2014.01 강소기업선정(고용노동부)
2013
- 2013.12 우수중소기업 표창(중소기업청)
- 2013.04 ‘월드 클래스 300’ 기업 선정(산업통상자원부)
- 2013.03 제47회 납세자의 날 산업포장 수상
2012
-
2012.12
삼성모바일디스플레이 우수협력사 1st One상 수상
제49회 무역의 날 ‘3천만불 수출탑’ 수상
안성사업장 연수센터(복지동) 준공(기존 추가 총 9,600평) - 2012.11 G8 Plasma Treatment 개발
- 2012.11 수출강소기업 선정(IBK 기업은행)
- 2012.05 한국거래소 소속부 변경(벤처기업부 → 우량기업부)
- 2012.04 중소기업청 벤처기업 재지정, 등록(9차)
2011
-
2011.12
중소기업청 기술혁신형 중소기업(InnoBiz 기업) 재지정(4차)
중소기업청 경영혁신형 중소기업 지정(2차)
삼성모바일디스플레이(주)로부터 우수협력사 1st One상 수상
삼성모바일디스플레이(주)로부터 Crepas 1st One상 수상
중기청, 삼성모바일디스플레이(주) 공동결성 R&D 협력펀드 수여
해외사무소(싱가폴) 설치 인가, 등록(싱가폴 정부) - 2011.08 한국거래소 코스닥 상장
- 2011.08 수출강소기업 선정(IBK 기업은행)
- 2011.05 한국거래소 소속부 변경(벤처기업부 → 우량기업부)
- 2011.04 중소기업청 벤처기업 재지정, 등록(9차)
2010
- 2010.11 G8 Dry Etcher 개발
- 2010.08 G5.5 Plasma Treatment 개발
- 2010.05 AMOLED G5.5 ICP Dry Etcher 개발
- 2010.04 중소기업청 벤처기업 재지정, 등록(7차)
- 2010.03 TFT-LCD 제조용 8세대 Dry Etcher 납품(국내)
- 2010.02 안성사업장 제3공장 준공(기존 추가 총 3,000평)
- 2010.01 AM-OLED 제조용 4.5G HDP Etcher 납품(국내)
2009
- 2009.12 삼성모바일디스플레이㈜ BestPartner상 수상
- 2009.05 G4.5 Plasma Treatment 개발
- 2009.04 중소기업청 벤처기업 재 지정, 등록 (6차)
- 2009.03 G2~G3 Evaporator 개발
2008
-
2008.12
중소기업청 경영혁신형 중소기업(MainBiz) 지정(1차)
중소기업청 기술혁신형 중소기업(InnoBiz 기업) 재 지정(3차) - 2008.11 병역특례 지정업체 선정(전문연구요원, 산업기능요원)
- 2008.04 중소기업청 벤처기업 재 지정, 등록 (5차)
- 2008.03 국내최초 TFTLCD 용 Dry Etcher 첫 수출(중국)
- 2008.02 금융감독원 감사인 지정(회계법인 성지)
2007
- 2007.07 KSA9001:2001/ISO9001:2000 인증획득
- 2007.04 중소기업청 벤처기업 재 지정, 등록 (4차)
- 2007.03 국내최초 TFTLCD 용 Metal Dry Etcher 납품(국내)
2006
- 2006.09 G5 ICP Etcher 개발
- 2006.09 G4 ICP Etcher 개발
- 2006.08 경기도 유망중소기업 지정
- 2006.03 국내최초 AMOLED 용 HDP Etcher 납품(국내)
2005
- 2005.11 제 42회 무역의날 "1천만불 수출의 탑" 수상
-
2005.07
제2회 전환사채 발행 (인수자 : 한싱하이테크투자조합)
중소기업청 기술혁신형 중소기업(InnoBiz기업) 재 지정(2차) - 2005.06 금융감독원 감사인 지정 (삼일회계법인)
- 2005.05 중소기업청 벤처기업 재 지정, 등록 (3차)
- 2005.04 해외사무소(대만)설치 인가, 등록 (대만정부)
-
2005.01
"MIC20011 KDBC 투자조합 2호" 제 1회 전환사채 주식전환(현자본금 2,806 백만원)
안성사업장 제 2공장 준공
2004
- 2004.11 제 41회 무역의날 "5백만불 수출의 탑" 수상
- 2004.02 안성사업장 준공 (2,300 평)
2003
- 2003.11 "한싱하이테크투자조합" 자본투자유치(자본금 2,633 백만원)
- 2003.08 Products CE Mark 인증 획득
- 2003.06 기업 부설 연구소 등록 (한국산업기술진흥협회)
- 2003.05 SID 2003 in USA, Paper 발표
-
2003.04
대한민국 2003년 물리학회에 초청, 기술발표
기술신용보증기금 우량기술기업 지정
중소기업청 벤처기업 재 지정, 등록 (2차)
2002
- 2002.12 중소기업청 기술혁신형 중소기업(InnoBiz기업) 지정
- 2002.09 국내최초 AMOLED 용 HDP Asher 납품(국내)
- 2002.07 중소기업청 수출유망중소기업 지정
- 2002.03 국내최초 Plasma PIRework Asher 첫 수출 (대만)
2001
- 2001.12 국내최초 AMOLED 및 LTPS용 HDP Etcher 독자개발
- 2001.02 중소기업청 벤처기업 지정, 등록
- 2001.01 TFTLCD용 Dry Etcher(E800) 독자개발
2000
- 2000.11 Research Center 설립
- 2000.06 생산 개시
- 2000.04 금융감독원 법인 등록
- 2000.03 자본금 증자 23억 5천만원
- 2000.02 법인설립 자본금 5천만원
- 2000.01 G2 Dry Etcher 개발
- 2000.01 G4 Plasma Asher 개발